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[UBIリサーチの上半期OLEDセミナー] GrapheneLab、メッキメタルマスクでppiの限界を越える

24 6月 2022 /カテゴリ:

Graphene商用化技術企業である”GrapheneLab”でGrapheneを利用した800ppi以上のFMM製造が可能だと発表した。

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05 7月 2018 /カテゴリ:

先日のMWC 2017で、Sonyが世界初となる4K LCD搭載のスマートフォンを公開したことに続き、来る7月には実際に4K LCD搭載の‘Xperia XZ2 Premium’を発売する予定で、スマートフォンにも4K解像度の市場が本格開花すると期待されている。

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11 5月 2018 /カテゴリ:

Fine Metal Mask（以下、FMM）は、画素とRGB有機物を蒸着する役割を担うため、OLEDの解像度と歩留まりを決定する要素となるが、現在のFMMは蒸着工程の際に熱膨張が起こったり、重さによるシャドー現象（Shadow Effect）が発生する限界にぶつかっている。

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12 10月 2017 /カテゴリ: フォーカス・オン

最近スマートフォン機器によるVRコンテンツ体験が増える傾向にあり、高解像度スマートフォンが求められているが、2014年に初めてGalaxy Note4にQHD OLEDが採用されて以来3年間、OLEDスマートフォンの解像度は変わらずQHD程度に留まっている。

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01 9月 2017 /カテゴリ:

28日に開催された「iMiD 2017」で、韓国檀国大学実験室ベンチャーのOLEDON代表ファン・チャンフン教授は、2250ppiを実現できる面蒸発源FMM蒸着技術について発表した。

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28日韓国釜山にあるBEXCOで開催された「iMiD 2017」で、韓国AP SystemsはUSPL（Ultra-short Pulse Laser、超短パルスレーザー）で、1000ppiの解像度を持つFMMの開発に成功したと発表した。

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02 11月 2016 /カテゴリ:

SUNICシステムは、2016 IMID Business forumでplane source evaporationと厚さ100umのshadow maskで1.1umのshadow distanceの具現に成功したと発表した。

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12 9月 2016 /カテゴリ:

溶液工程とSMS(Small mask scanning)方式だけでアクセスされたRGB方式の対面的OLED panel用の画素形成技術がFMMでも可能になることが期待されている。

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29 8月 2016 /カテゴリ:

済州島ICCコンベンションセンターで開かれたIMID2016で、SUNICシステムの11K（2250 ppi）AMOLED製造のためのソリューションが話題になっている。